Chemical vapor deposition is a common method for producing thin films.
Dịch: Sự lắng đọng hơi hóa học là một phương pháp phổ biến để sản xuất các màng mỏng.
The properties of the film can be controlled by adjusting the CVD process parameters.
Dịch: Các tính chất của màng có thể được kiểm soát bằng cách điều chỉnh các thông số quy trình CVD.